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日本大塚Otsuka
膜厚測(cè)試儀
日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀
產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2025-04-15
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:214
19938139269(馬經(jīng)理)
產(chǎn)品分類
日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供
產(chǎn)品信息
特點(diǎn)
● 全面高速高精度進(jìn)行薄膜等面內(nèi)膜厚不均一性檢測(cè)
● 硬件&軟件均為創(chuàng)新設(shè)計(jì)
● 作為專業(yè)膜厚測(cè)定廠商,提供多種支援
● 實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量
● 實(shí)現(xiàn)高速測(cè)量(500萬(wàn)點(diǎn)以上/分)
產(chǎn)品規(guī)格
測(cè)量范圍 | 0.1~300 μm |
測(cè)量寬度 | 250 mm |
測(cè)量間隔 | 1 ms~ |
設(shè)備尺寸(W×D×H) | 459×609×927 mm |
重量 | 60 kg |
功耗 | AC100 V±10% 125 VA |
測(cè)量例
250mm寬的薄膜案例
核心特點(diǎn):
微區(qū)測(cè)量能力:最小光斑直徑3μm,搭配自動(dòng)XY平臺(tái)(200×200mm),實(shí)現(xiàn)晶圓、FPD(如OLED、ITO膜)等微小區(qū)域的精準(zhǔn)厚度分布映射。
跨行業(yè)適用性:專為半導(dǎo)體(SiO?/SiN膜)、顯示面板(彩色光阻)、DLC涂層等行業(yè)設(shè)計(jì),支持粗糙表面、傾斜結(jié)構(gòu)及復(fù)雜光學(xué)異向性樣品的分析。
安全與擴(kuò)展性:區(qū)域傳感器觸發(fā)防誤觸機(jī)制,獨(dú)立測(cè)量頭支持定制化嵌入,滿足在線檢測(cè)(inline)與實(shí)驗(yàn)室研發(fā)需求。
日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供
非破壞性高速測(cè)量:采用顯微分光技術(shù),1秒內(nèi)完成單點(diǎn)對(duì)焦與測(cè)量,支持從紫外(230nm)到近紅外(1600nm)廣波長(zhǎng)范圍,覆蓋1nm至92μm膜厚需求,滿足半導(dǎo)體、光學(xué)材料等高精度場(chǎng)景。
透明基板技術(shù):反射對(duì)物鏡設(shè)計(jì),物理消除基板內(nèi)部反射干擾,實(shí)現(xiàn)玻璃、SiC等透明或異向性基板上的高精度膜厚測(cè)量,支持50層以上多層膜解析。
智能建模與易用性:內(nèi)置初學(xué)者模式,簡(jiǎn)化光學(xué)常數(shù)(n/k)建模流程,支持宏功能自定義測(cè)量序列,可無(wú)縫集成自動(dòng)化產(chǎn)線。
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